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    半導體生產用純水設備是半導體行業制造商的關鍵設備之一，生產半導體原料需要使用純水進行清洗和制備，在半導體產業鏈中起著至關重要的作用。本文將從純水設備工作原理、特點以及應用等方面進行闡述，希望能夠幫助讀者更好地了解這一領域的知識。

    半導體生產用純水設備工作原理與反滲透設備的工作原理是相通的。都需要使用到滲透膜，其工作原理是對水施加一定的壓力，使水分子和離子態的礦物質元素通過反滲透膜，而溶解在水中的絕大部分無機鹽(包括重金屬)、有機物以及細菌、病毒等無法透過反滲透膜，從而使滲透過的純凈水和無法滲透過的濃縮水嚴格的分開；反滲透膜上的孔徑只有0.0001微米，而病毒的直徑一般有0.02-0.4微米，普通細菌的直徑有0.4-1微米。